Вышедшие номера
Планарные фотодиоды на основе эпитаксиальных слоев Cd xHg 1- xTe, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Овсюк В.Н.1, Васильев В.В.1, Захарьяш Т.И.1, Ремесник В.Г.1, Студеникин С.А.1, Сусляков А.О.1, Талипов Н.Х.1, Сидоров Ю.Г.1, Дворецкий С.А.1, Михайлов Н.Н.1, Либерман В.Г.1, Варавин В.С.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 23 сентября 1994 г.
Выставление онлайн: 20 января 1996 г.

Сообщается о реализации p-n-переходов малой площади, фоточувствительных в инфракрасной области спектра, на основе пленок CdxHg1-xTe, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии со специально заданным и контролируемым in situ профилем состава x по толщине пленки. Фотодиодные структуры представляют собой "вертикальные" p-n-переходы, изготовленные по планарной технологии путем отжига под анодным окислом.