Вышедшие номера
Исследование структуры дефектов в пленках CdxHg1-xTe, выращенных жидкофазной эпитаксией, с помощью низкоэнергетической ионной обработки
Ижнин И.И.1, Ижнин А.И.1, Фицыч Е.И.1, Смирнова Н.А.2, Денисов И.А.2, Поцяск М.3, Мынбаев К.Д.4
1НИИ материалов НПП "Карат", Львов, Украина
2Государственный научно-исследовательский и проектный институт редкометаллической промышленности "Гиредмет", Москва, Россия
3Институт физики Университета Жешув, 35-310 Жешув, Польша
4Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 24 февраля 2011 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2011 г.

С использованием низкоэнергетической ионной обработки и измерения электрических параметров образцов исследована структура дефектов пленок CdxHg1-xTe, выращенных жидкофазной эпитаксией. В пленках обнаружены нейтральные дефекты, предположительно связанные с нановключениями теллура. Ионная обработка электрически активирует эти дефекты, создавая в пленках высокую концентрацию донорных центров (~1017 см-3), распадающихся в течение ~103 мин старения при комнатной температуре. После этого свойства материала определяются концентрацией остаточных доноров, которая для исследованных пленок оказалась очень низкой (вплоть до ~1014 см-3).