Радиационно-стимулированная релаксация внутренних механических напряжений в гомоэпитаксиальных пленках фосфида галлия
Поступила в редакцию: 19 декабря 2005 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2006 г.
Методом электроотражения исследованы электронные переходы E0, E0+Delta0 в гомоэпитаксиальных пленках n-GaP (111) с концентрацией электронов 5.7·1023 м-3 до и после облучения gamma-квантами 60Co в интервале доз 105-106 рад при комнатной температуре с использованием электролитической методики. Наблюдалось расщепление низкоэнергетического экстремума после облучения. Уменьшение внутренних механических напряжений в пленке под действием gamma-облучения оценивалось по изменению энергии электронного перехода и столкновительного параметра уширения. Оценено также увеличение времени энергетической релаксации носителей заряда после облучения. PACS: 61.80.Ed, 71.70.Ej, 78.20.Jq, 81.40.Wx
- Е.Ф. Венгер, Л.А. Матвеева. Неорг. матер., 33 (2), 153 (1997)
- Ю.А. Тхорик. Структурная релаксация в полупроводниковых кристаллах и приборных структурах (Киев, Наук. думка, 1994)
- О.Ю. Борковская, С.А. Груша, Н.Л. Дмитрук и др. ЖТФ, 55 (10), 1977 (1985)
- В.А. Тягай, О.В. Снитко. Электроотражение света в полупроводниках (Киев, Наук. думка, 1980)
- П. Ю, М. Кардона. Основы физики полупроводников (М., Физматлит, 2002)
- M. Cardona, K.L. Shaklee, F.H. Pollak. Phys. Rev., 154 (3), 696 (1967)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.