Управление параметрами массивов квантовых точек InAs--GaAs в режиме роста Странского--Крастанова
Черкашин Н.А.1, Максимов М.В.1, Макаров А.Г.1, Щукин В.А.1, Устинов В.М.1, Луковская Н.В.1, Мусихин Ю.Г.1, Цырлин Г.Э.1, Берт Н.А.1, Алфёров Ж.И.1, Леденцов Н.Н.2, Бимберг Д.2
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Технический университет Берлина, Берлин, Германия
Поступила в редакцию: 22 октября 2002 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2003 г.
Исследовалось влияние температуры роста на плотность, латеральный размер и высоту квантовых точек InAs-GaAs по данным просвечивающей электронной микроскопии. С увеличением температуры роста от 450 до 520oC наблюдается уменьшение плотности квантовых точек, а также увеличение их латерального размера и уменьшение высоты, т. е. точки приобретают более плоскую форму. Коротковолновый сдвиг линии фотолюминесценции свидетельствует об уменьшении объема квантовых точек. Наблюдаемые закономерности находятся в согласии с выводами термодинамической теории роста. Исследовалось также влияние понижения температуры подложки непосредственно после формирования квантовых точек на их параметры. При понижении температуры происходит уменьшение латерального размера точек и увеличение их плотности, т. е. массивы квантовых точек стремятся приобрести равновесные параметры, соответствующие температуре, до которой осуществляется охлаждение. Высота квантовых точек при охлаждении увеличивается очень быстро, и при конечном времени охлаждения может превышать равновесное значение, что открывает возможности для создания массивов квантовых точек с требуемым отношением высоты к латеральному размеру путем выбора времени охлаждения.
- D. Bimberg, M. Grundmann, N.N. Ledentsov. Quantum Dots Heterostructures (John Willey \& Sons, Baffins Line, Chichester, 1999)
- N.N. Ledentsov, V.A. Shchukin, M. Grundmann, N. Kirstaedter, J. Bohrer, O. Schmidt, D. Bimberg, V.M. Ustinov, A.Yu. Egorov, A.E. Zhukov, P.S. Kop'ev, S.V. Zaitsev, N.Yu. Gordeev, Zh.I. Alferov, A.I. Borovkov, A.O. Kosogov, S.S. Ruvimov, P. Werner, U. Gosele, J. Heydenreich. Phys. Rev. B, 54 (12), 8743 (1996)
- I. Mukhametzhanov, R. Heitz, J. Zeng, P. Chen, A. Madhukar. Appl. Phys. Lett., 73, 1341 (1998)
- M.V. Maximov, A.F. Tsatsul'nikov, B.V. Volovik, D.S. Sizov, Yu.M. Shernyakov, I.N. Kaiander, A.E. Zhukov, A.R. Kovsh, S.S. Mikhrin, V.M. Ustinov, Zh.I. Alferov, R. Heitz, V.A. Shchukin, N.N. Ledentsov, D. Bimberg, Yu.G. Musikhin, W. Neumann. Phys. Rev. B, 62, 16 671 (2000)
- N.N. Ledentsov, M. Grundmann, N. Kirstaedter, O. Schmidt, R. Heitz, J. Bohrer, D. Bimberg, V.M. Ustinov, V.A. Shchukin, P.S. Kop'ev, Zh.I. Alferov, A.O. Kosogov, P. Werner, U. Richter, U. Gosele, J. Heydenreich. Sol. St. Electron., 40, 785 (1996).
- V.A. Shchukin, N.N. Ledentsov, V.M. Ustinov, Yu.G. Musikhin, V.B. Volovic, A. Schliwa, O. Stier, R. Heitz, D. Bimberg. In: Morphological and Compositional Evolution of Heteroepitaxial Semiconductor Thin Films, ed. by J. Mirecki Millunchick, A.-L. Barabasi, N.A. Modine, and E. Jones [Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 618, 79 (Pittsburgh, 2000)]
- A. Madhukar. In: Low Dimensional Structures Prepared by Epitaxial Growth or Regrowth on Patterned Substrates, ed. by K. Eberl, P. Petroff and P. Demeester (Dordrecht, Kluwer, 1995) p. 19
- A.L. Barabasi. Appl. Phys. Lett., 70, 2565 (1997)
- D.E. Jesson, K.M. Chen., S.J. Pennycook, T. Thundat, R.J. Warmack. Phys. Rev. Lett., 77, 1330 (1996)
- V.A. Shchukin, N.N. Ledentsov, P.S. Kop'ev, D. Bimberg. Phys. Rev. Lett., 75, 2968 (1995)
- I. Daruka, A.L. Barabasi. Phys. Rev. Lett., 79, 3708 (1997)
- G. Medeiros-Ribeiro, A.M. Bratkovski, T.I. Kamins, D.A. Ohlberg, R.S. Williams. Science, 279, 353 (1998)
- V.A. Shchukin, N.N. Ledentsov, D. Bimberg. Epitaxy of Nanostructures [Springer Series on Nanoscience and Technology (Springer, Berlin, 2002) p. 320]
- V.A. Shchukin, N.N. Ledentsov, D. Bimberg. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. (Pittsburgh, 2000) v. 583, p. 23
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.