Определение потока и энергии активации десорбции фосфора при отжиге в потоке мышьяка подложки InP(001) в условиях молекулярно-лучевой эпитаксии
Колосовский Д.А.
1, Дмитриев Д.В.
1, Пономарев С.А.
1, Торопов А.И.
1, Журавлев К.С.
11Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Email: d.kolosovsky@isp.nsc.ru, ddmitriev@isp.nsc.ru, ponomarev@isp.nsc.ru, toropov@isp.nsc.ru, zhur@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 2 марта 2022 г.
В окончательной редакции: 25 марта 2022 г.
Принята к печати: 25 марта 2022 г.
Выставление онлайн: 11 июня 2022 г.
Экспериментально исследован процесс десорбции фосфора с epi-ready подложек InP(001) при высокотемпературном отжиге в потоке мышьяка. При отжиге на поверхности формируется твердый раствор InPAs и островки InAs. Предложена оригинальная методика определения количества атомов фосфора, десорбирующих с поверхности, путем определения количества атомов мышьяка в твердом растворе InPAs и островках InAs. Поток фосфора, десорбирующий с поверхности, повышается от 1·10-4 монослоя · см-2·с-1 при температуре отжига 500oC до 7.3·10-4 монослоя · см-2· с-1 при 540oC. Энергия активации процесса десорбции фосфора составляет 2.7±0.2 эВ. Ключевые слова: фосфид индия, отжиг, десорбция, энергия активации.
- S. Lee, M. Winslow, C.H. Grein, S.H. Kodati, A.H. Jones, D.R. Fink, P. Das, M.M. Hayat, T.J. Ronningen, J.C. Campbell, S. Krishna. Sci. Rep., 10, 16735 (2020)
- J.A. del Alamo. Nature, 479, 317 (2011)
- W.C. Huang, C.T. Horng. Appl. Surf. Sci., 257, 3565 (2011)
- H. Yoo, K.S. Lee, S. Nahm, G.W. Hwang, S. Kim. Appl. Surf. Sci., 578, 151972 (2022)
- R. Nagarajan, M. Kato, J. Pleumeekers, P. Evans, S. Corzine, S. Hurtt, A. Dentai, S. Myrthy, M. Missey, R. Muthiah, R. Salvatore, C. Joyner, R. Schneider, M. Ziari, F. Kish, D. Welch. IEEE J. Selеct. Topics Quant. Electron., 16, 1119 (2010)
- K.S. Zhuravlev, A.L. Chizh, K.B. Mikitchuk, A.M. Gilinsky, I.B. Chistokhin, N.A. Valisheva, D.V. Dmitriev, A.I. Toropov, M.S. Aksenov. J. Semicond., 43, 012302 (2022)
- D.V. Dmitriev, N.A. Valisheva, A.M. Gilinsky, I.B. Chistokhin, A.I. Toropov, K.S. Zhuravlev. IOP Conf. Ser.: Mater. Sci. Eng., 475, 012022 (2019)
- Д.В. Дмитриев, Д.А. Колосовский, А.И. Торопов, К.С. Журавлев. Автометрия, 57 (5), 1 (2021)
- R. Averbeck, H. Riechert, H. Schlotterer. Appl. Phys. Lett., 59, 1732 (1991)
- S. Kanjanachuchai, T. Wongpinij, C. Euaruksakul, P. Photongkam. Appl. Surf. Sci., 542, 148549 (2021)
- C.H. Li, L. Li, D.C. Law, S.B. Visbeck, R.F. Hicks. Phys. Rev. B, 65, 205322 (2002)
- G.J. Davies, R. Heckingbottom, H. Ohno, C.E.C. Wood, A.R. Calawa, Appl. Phys. Lett., 37, 290 (1980)
- S.L. Zuo, W.G. Bi, C.W. Tu, E.T. Yu. J. Vac. Sci. Technol. B, 16, 2395 (1998)
- A. Chen, E. Murphy. Broadband optical modulators: Science, Technology, and Applications (Boca Raton, CRC Press, 2012)
- H. Ikeda, Y. Miura, N. Takahashi, A. Koukitu, H. Seki. Appl. Surf. Sci., 82, 257 (1994)
- Z. Sobiesierski, D.I. Westwood, P.J. Parbrook, K.B. Ozanyan, M. Hopkinson, C.R. Whitehouse. Appl. Phys. Lett., 70, 1423 (1997)
- N. Kobayashi, Y. Kobayashi. J. Cryst. Growth, 124, 525 (1992)
- J.M. Moison, M. Bensoussan, F. Houzay. Phys. Rev. B, 34 (3), 2018 (1986)
- G. Hollinger, D. Gallet, M. Gendry, C. Santinelli, P. Viktorovitch. J. Vac. Sci. Technol. B, 8, 832 (1990)
- J.M. Moison, C. Guille, M. Van Rompay, F. Barthe, F. Houzay, M. Bensoussan. Phys. Rev. B, 39, 1772 (1989)
- T.W. Lee, H. Hwang, Y. Moon, E. Yoon. J. Vac. Sci. Technol. A, 17, 2663 (1999)
- N. Kobayashi, Y. Kobayashi. Jpn. J. Appl. Phys. Pt 2, 30, L1699 (1991)
- Y. Sun, D.C. Law, S.B. Visbeck, R.F. Hicks. Surf. Sci., 513, 256 (2002)
- D.V. Dmitriev, D.A. Kolosovsky, T.A. Gavrilova, A.K. Gutakovskii, A.I. Toropov, K.S. Zhuravlev. Surf. Sci., 710, 121861 (2021)
- D.V. Dmitriev, I.A. Mitrofanov, D.A. Kolosovsky, A.I. Toropov, K.S. Zhuravlev. 21st Int. Conf. Young Specialists on Micro/Nanotechnologies and Electron Devices (EDM), 5 (2020)
- D. Kolosovsky, D. Dmitriev, T. Gavrilova, A. Toropov, A. Kozhukhov, K. Zhuravlev. IEEE 22nd Int. Conf. Young Professionals in Electron Devices and Materials (EDM), 17 (2021)
- Д.В. Дмитриев, Д.А. Колосовский, Е.В. Федосенко, А.И. Торопов, К.С. Журавлев. ФТП, 55 (10), 877 (2021)
- G. Hollinger, E. Bergignat, J. Joseph, Y. Robach. J. Vac. Sci. Technol. A, 3, 2082 (1985)
- Y.S. Lee, W.A. Anderson. J. Appl. Phys., 65 (10), 4051 (1989)
- A. Nelson, K. Geib, C.W. Wilmsen. J. Appl. Phys., 54 (7), 4134 (1983)
- N. Shibata, H. Ikoma. Jpn. J. Appl. Phys., 31 (12R), 3976 (1992)
- M.B. Panish, J.R. Arthur. J. Chem. Therm., 2 (3), 299 (1970)
- J.R. Arthur. J. Phys. Chem. Sol., 28 (11), 2257 (1967)
- H. Seki, A. Koukitli. J. Cryst. Growth, 78 (2), 342 (1986)
- S. Katsura, Y. Sugiyama, O. Oda, M. Tacano. Appl. Phys. Lett., 62, 1910 (1993)
- Q.-K. Xue, T. Hashizume, T. Sakurai. Progr. Surf. Sci., 56, 1 (1997)
- A.Y. Cho, J.C. Tracy. US Patent N 3,969,164
- H. Yamaguchi, Y. Horikoshi. Phys. Rev. B, 44, 5897 (1991)
- O. Feron, M. Sugiyama, W. Asawamethapant, N. Futakuchi, Y. Feurprier, Y. Nakano, Y. Shimogaki. Appl. Surf. Sci., 157, 318 (2000)
- L. Li, B.-K. Han, D. Law, C.H. Li, Q. Fu, R.F. Hicks. Appl. Phys. Lett., 75, 683 (1999)
- D. Yap, K.R. Elliott, Y.K. Brown, A.R. Kost, E.S. Ponti. IEEE Phot. Techn. Lett., 13, 26 (2001)
- H. Takeuchi, K. Tsuzuki, K. Sato, M. Yamamoto, Y. Itaya, A. Sano, M. Yoneyama, T. Otsuji. IEEE J. Select. Topics Quant. Electron., 3, 336 (1997).
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.