Вышедшие номера
Применение компенсирующих слоев GaAsP для роста лазерных гетероструктур с квантовыми ямами InGaAs/GaAs, излучающих на длинах волн больше 1100 нм, на искусственных подложках Ge/Si
Переводная версия: 10.1134/S1063782618120060
Байдусь Н.В.1, Алешкин В.Я.2, Дубинов А.А.2, Красильник З.Ф.2, Кудрявцев К.Е.2, Некоркин С.М.1, Новиков А.В.2, Рыков А.В.1, Реунов Д.Г.1, Шалеев М.В.1, Юнин П.А.2, Юрасов Д.В.2
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: aleshkin@ipm.sci-nnov.ru, sanya@imp.sci-nnov.ru, bnv@nifi.unn.ru
Поступила в редакцию: 25 апреля 2018 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2018 г.

Методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений на подложках GaAs и искусственных подложках Ge/Si на основе Si(001) с эпитаксиальным метаморфным слоем Ge выращены лазерные структуры с напряженными квантовыми ямами InGaAs/GaAs. Для подавления релаксации упругих напряжений при росте квантовых ям InGaAs с высокой долей In применялись компенсирующие слои GaAsP. Сопоставлены структурные и излучательные свойства образцов, выращенных на различных типах подложек. На структурах, выращенных на подложках GaAs, получено стимулированное излучение на длинах волн до 1.24 мкм при температуре 300 K, выращенных на подложках Ge/Si - на длинах волн до 1.1 мкм при температуре 77 K.