"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Электрический пробой в чистом n- и p-Si
Переводная версия: 10.1134/S1063782618030065
Банная В.Ф.1, Никитина Е.В.2
1Московский государственный педагогический университет, Москва, Россия
2Российский университет дружбы народов, Москва, Россия
Email: enikitina@sci.edu.ru
Поступила в редакцию: 6 февраля 2017 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2018 г.

Представлены результаты расчета зависимостей кинетических коэффициентов ударной ионизации и термической рекомбинации от электрического поля в чистом кремнии. По аналогии с германием рассчитаны зависимости поля электрического пробоя Ebr от степени компенсации материала K. Дано подробное обоснование правомочности такого расчета. Представлены кривые Ebr(K) и проведено сравнение с экспериментальными данными в области слабых компенсаций. Выполнена привязка к экспериментальным результатам, при которой наблюдается удовлетворительное соответствие теории и эксперимента. DOI: 10.21883/FTP.2018.03.45610.8536
  1. В.Ф. Банная, Л.И. Веселова, Е.М. Гершензон, В.А. Чуенков. ФТП, 7 (10), 1972 (1973)
  2. В.Ф. Банная, Л.И. Веселова, Е.М. Гершензон, Ю.А. Гурвич. ФТП, 10 (3), 452 (1976)
  3. Б.И. Шкловский, А.Л. Эфрос. Электронные свойства легированных полупроводников (М., Наука, 1979)
  4. Б.И. Шкловский, А.Л. Эфрос. ЖЭТФ, 60 (2), 867 (1971)
  5. В.Ф. Банная, Е.М. Гершензон, Т.Г. Фукс. ФТП, 13 (2), 264 (1979)
  6. В.Ф. Банная, Е.М. Гершензон, Ю.П. Ладыжинский, Т.Г. Фукс. ФТП, 7 (6), 1092 (1973)
  7. Э. Конуэлл. Кинетические свойства полупроводников в сильных электрических полях (М., Мир, 1970).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.