Вышедшие номера
Электрические и фотоэлектрические свойства гетероструктур TiN/p-InSe
Орлецкий И.Г.1, Илащук М.И.1, Брус В.В.1, Марьянчук П.Д.1, Солован М.М.1, Ковалюк З.Д.1
1Черновицкий национальный университет им. Юрия Федьковича, Черновцы, Украина
Email: i.orletskyi@chnu.edu.ua
Поступила в редакцию: 13 июля 2015 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2016 г.

Исследованы условия изготовления фоточувствительных гетеропереходов TiN/p-InSe методом реактивного магнетронного напыления тонких пленок нитрида титана на свежесколотые монокристаллические пластины p-InSe. На основе анализа вольт-амперных характеристик установлено присутствие на гетеропереходе туннельно-тонкого высокоомного слоя In2Se3 и выяснено его влияние на электрические свойства и спектральные зависимости фоточувствительности исследованых гетероструктур. Определены основные механизмы формирования прямого и обратного токов сквозь энергетический баръер TiN/p-InSe.