Вышедшие номера
Зависимость подвижности электронов в режиме обогащения от их плотности в полностью обедняемых пленках кремний-на-изоляторе
Наумова О.В.1, Зайцева Э.Г.1, Фомин Б.И.1, Ильницкий М.А.1, Попов В.П.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 19 февраля 2015 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2015 г.

Исследована подвижность электронов в режиме обогащения mueff в необедняемых и полностью обедняемых двухзатворных n+-n-n+-транзисторах со слоями кремний-на-изоляторе (КНИ). Предложена замена полевой зависимости подвижности mueff зависимостью от плотности индуцированных носителей заряда Ne для определения диапазона возможных значений подвижности и доминирующих механизмов рассеяния в тонкопленочных структурах. Показано, что зависимости mueff(Ne) могут быть аппроксимированы степенными функциями mueff(Ne) propto Ne-n, где показатель n, как и в полевой зависимости подвижности, определяется механизмом рассеяния носителей заряда. Определены значения показателя n для зависимостей mueff(Ne) при изменении режима пленки КНИ со стороны одной из ее поверхностей от инверсии до обогащения. Дано объяснение полученных результатов с точки зрения перераспределения плотности электронов по толщине пленки КНИ и изменения механизмов рассеяния.