Вышедшие номера
Особенности рекомбинационных потерь фототока в анизотипных гетеропереходах n-TiN/p-Si
Солован М.Н.1, Брус В.В.1, Марьянчук П.Д.1
1Черновицкий национальный университет им. Юрия Федьковича, Черновцы, Украина
Поступила в редакцию: 27 марта 2014 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2014 г.

Получены фоточувствительные гетероструктуры n-TiN/p-Si методом реактивного магнетронного распыления. Гетероструктуры генерируют напряжение холостого хода Voc=0.4 B и ток короткого замыкания Isc=1.36 мА/см2 при освещении 80 мВт/см2. Из анализа освещенной ВАХ и спектра квантовой эффективности установлено, что низкие фотоэлектрические параметры обусловлены рекомбинацией в базовой области гетероперехода и формированием высокоомного слоя SiO2 на поверхности поликристаллического кремния, который не обеспечивает качественной пассивации поверхностных состояний.