Плазмохимическое напыление и эмиссионные свойства углеродных пленок, осаждаемых при низкой температуре
Виноградов А.Я.1, Андронов А.Н.2, Косарев А.И.1, Абрамов А.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный технический университет, Санкт-Петербург, Россия
Выставление онлайн: 20 мая 2001 г.
Исследованы углеродные пленки, нанесенные из смеси водорода и паров гексана при температуре подложки 150-200oC на кремниевые острийные эмиттеры и плоские подложки методом плазмохимического газофазного осаждения. Покрытия, повышающие эффективность эмиссии острийных эмиттеров, и пленки для плоских эмиттеров наносились при различных условиях травления растущей пленки водородной плазмой. Пленки, нанесенные на плоские подложки, и покрытия острийных эмиттеров обладают высокой оптической прозрачностью, низкой электропроводностью, имеют полимероподобную структуру с высокой концентрацией sp2-связей между атомами углерода и различаются электронной структурой, окружением атомов углеродной решетки, микроплотностью и содержанием водорода в пленке.
- A.I. Kosarev, V.V. Zhirnov, A.J. Vinogradov, M.V. Shutov, L.V. Bormatova, E.I. Givargizov, T.E. Felter. MRS Proc., 509, 130 (1998)
- A.I. Kosarev, A.S. Abramov, A.N. Andronov, A.J. Vinogradov, M.V. Shutov, M.Z. Waqar, A.N. Titkov, I.V. Makarenko. Proc. 4th Int Symp. on Diamond Films and Related Materials (ISDF-4) (Kharkov, 1999) p. 209
- D.A. Shirley. Adv. Chem. Phys., 23, 85 (1973)
- J. Schafer, J. Ristein, R. Graupner, L. Ley, U. Stephan, Th. Frauenheim, V.S. Veerasamy, G.A.J. Amaratunga, M. Weiler, H. Ehrhardt. Phys. Rev. B, 53, 7762 (1996)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
