"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Плазмохимическое напыление и эмиссионные свойства углеродных пленок, осаждаемых при низкой температуре
Виноградов А.Я.1, Андронов А.Н.2, Косарев А.И.1, Абрамов А.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный технический университет, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 9 ноября 2000 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2001 г.

Исследованы углеродные пленки, нанесенные из смеси водорода и паров гексана при температуре подложки 150-200oC на кремниевые острийные эмиттеры и плоские подложки методом плазмохимического газофазного осаждения. Покрытия, повышающие эффективность эмиссии острийных эмиттеров, и пленки для плоских эмиттеров наносились при различных условиях травления растущей пленки водородной плазмой. Пленки, нанесенные на плоские подложки, и покрытия острийных эмиттеров обладают высокой оптической прозрачностью, низкой электропроводностью, имеют полимероподобную структуру с высокой концентрацией sp2-связей между атомами углерода и различаются электронной структурой, окружением атомов углеродной решетки, микроплотностью и содержанием водорода в пленке.
  1. A.I. Kosarev, V.V. Zhirnov, A.J. Vinogradov, M.V. Shutov, L.V. Bormatova, E.I. Givargizov, T.E. Felter. MRS Proc., 509, 130 (1998)
  2. A.I. Kosarev, A.S. Abramov, A.N. Andronov, A.J. Vinogradov, M.V. Shutov, M.Z. Waqar, A.N. Titkov, I.V. Makarenko. Proc. 4th Int Symp. on Diamond Films and Related Materials (ISDF-4) (Kharkov, 1999) p. 209
  3. D.A. Shirley. Adv. Chem. Phys., 23, 85 (1973)
  4. J. Schafer, J. Ristein, R. Graupner, L. Ley, U. Stephan, Th. Frauenheim, V.S. Veerasamy, G.A.J. Amaratunga, M. Weiler, H. Ehrhardt. Phys. Rev. B, 53, 7762 (1996)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.