Вышедшие номера
Туннелирование через примесные состояния, связанные с X-долиной в тонком AlAs-барьере
Ханин Ю.Н.1, Новоселов К.С.2, Вдовин Е.Е.1
1Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской академии наук, Черноголовка, Россия
2Research Institute for Materials, High Field Magnet Laboratory, University of Nijmegen, ED Nijmegen, The Netherlands
Поступила в редакцию: 3 июля 2000 г.
Выставление онлайн: 20 января 2001 г.

На вольт-амперных характеристиках однобарьерных гетероструктур GaAs/AlAs/GaAs обнаружены особенности, соответствующие резонансному туннелированию электронов из Gamma-долины GaAs в X-долину AlAs. Зарегистрировано туннелирование как через состояния, относящиеся к двумерным подзонам Xxy и Xz в слое AlAs, так и через связанные с ним примесные состояния. Показано, что энергетическое положение таких примесных состояний определяется в основном двумя факторами: а) пространственным ограничением слоя AlAs, влияющим как на энергии уровней размерного квантования подзон Xxy и Xz, так и на величины энергий связи с ними примесных состояний; б) двуосным сжатием слоя AlAs вследствие несовпадения постоянных решеток AlAs и GaAs, приводящим к расщеплению долин Xxy и Xz. Это позволило впрямую определить энергию связи примесных состояний, которая составляет для Xz-долины ~ 50 мэВ, а для Xxy-долины ~ 70 мэВ.