Вышедшие номера
Температурная зависимость остаточных механических напряжений в эпитаксиальных пленках GaAs/Si(100) по данным спектроскопии фотоотражения
Кузьменко Р.В.1, Ганжа А.В.1, Бочурова О.В.1, Домашевская Э.П.1, Шрайбер Й.2, Хильдебрандт С.2, Мо Ш.3, Пайнер Э.3, Шлахетцкий А.3
1Воронежский государственный университет (физический факультет), Воронеж, Россия
2Fachbereich Physik der Martin-Luther-Universitat Halle-Witteberg, Halle/Saale, Deutschland
3Institut fur Halbleitertechnik der Technischen Universitat Braunschweig, Braunschweig, Deutschland
Поступила в редакцию: 25 мая 1999 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1999 г.

В области температур T=10/ 300 K при помощи спектроскопии фотоотражения исследована температурная зависимость остаточных механических напряжений в эпитаксиальных пленках n-GaAs (толщина 1/ 5 мкм, концентрация электронов 1016/1017 см-3), выращенных на подложках Si (100). Количественный анализ показывает, что спектры фотоотражения, измеряемые в энергетической области перехода E0 GaAs, двухкомпонентны и состоят из электромодуляционной компоненты, обусловленной переходом "валентная подзона |3/2;± 1/2>-зона проводимости", и низкоэнергетической экситонной компоненты. Величина механических напряжений определяется из значения деформационно-индуцированного сдвига энергии фундаментального перехода из подзоны |3/2;±1/2> по отношению к ширине запрещенной зоны ненапряженного эпитаксиального материала, E0(T)-E0|3/2;±1/2>(T). Обнаруженное увеличение энергетического сдвига E0-E0|3/2;±1/2> от 22± 3 мэВ при 296 K до 29± 3 мэВ при 10 K указывает на рост биаксиального напряжения растяжения при понижении температуры.