Вышедшие номера
Глубокие состояния в delta-легированном кремнием GaAs
Алешкин В.Я.1, Данильцев В.М.1, Мурель А.В.1, Хрыкин О.И.1, Шашкин В.И.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 14 июля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1998 г.

Исследованы плотность глубоких состояний и сечения захвата на них электронов в delta-легированном кремнием GaAs с помощью измерений зависимостей от напряжения и температуры импеданса барьера Шоттки к структуре. Обнаружено, что при концентрации кремния в delta-слое более 6·1012 см-2 в запрещенной зоне появляются хвосты плотности состояний. В наших струтурах энергия, характеризующая глубину проникновения хвоста, изменялась в интервале 20/100 мэВ. Характерная величина сечения захвата электронов на глубокие состояния в delta-слоях была порядка 10-17 см2. Показано, что насыщение концентрации электронов в delta-слое с ростом концентрации Si обусловлено автокомпенсацией Si.