"Физика и техника полупроводников"
Вышедшие номера
Влияние плазменной обработки поверхности карбида кремния на характеристики полевых транзисторов со скрытым p-n-затвором
Иванов П.А.1, Коньков О.И.1, Пантелеев В.Н.1, Самсонова Т.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 11 апреля 1997 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1997 г.

Для SiC полевых транзисторов со скрытым p-n-затвором показана возможность стабилизации зарядового состояния поверхности канала, выступающей в таких транзисторах в роли дополнительного "плавающего" затвора, путем ее обработки в водородной плазме при комнатной температуре. Продемонстрировано, что необходимость такой стабилизации особенно актуальна для транзисторов с относительно низкой концентрацией доноров в канале (высоковольтных), в которых поверхностный заряд может сильно модулироваться напряжением стока из-за влияния короткоканальных эффектов.
  1. П.А. Иванов, В.Е. Челноков. ФТП, 29, 1921 (1995)
  2. П.А. Иванов, В.Н. Пантелеев, Т.П. Самсонова, В.Е. Челноков. ФТП, 29, 271 (1995)
  3. А.О. Константинов, Н.С. Константинова, О.И. Коньков, Е.И. Теруков, П.А. Иванов. ФТП, 28, 342 (1994)
  4. P.A. Ivanov, N.S. Savkina, V.N. Panteleev, T.P. Samsonova, A.A. Maltsev. Transactions of the 3-rd International HiTEC (Albuquerque, NM, 1996) p. P-213
  5. A.O. Konstantinov, P.A. Ivanov, O.I. Konkov, E.I. Terukov. In: Silicon Carbide and Related Materials, ed. by M.G. Spencer, R.P. Devaty, J.A. Edmond, M. Asif Khan, R. Karlan, M. Rahman (Inst. Phys. Conf. Ser. No 137; Inst. Phys. Publishing, Bristol and Philadelphia, 1993) p. 275
  6. J.R. Brews, W. Fitchner, E.H. Nicolian, S.M. Sze. IEEE Electron. Dev. Lett., EDL-1, 2 (1980)

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.