Вышедшие номера
Особенности формирования гетерограниц (Al,Ga)Sb/InAs при молекулярно-пучковой эпитаксии
Неклюдов П.В.1, Иванов С.В.1, Мельцер Б.Я.1, Копьев П.С.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 25 февраля 1997 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 1997 г.

Мы представляем термодинамическую модель процесса формирования методом молекулярно-пучковой эпитаксии гетерограниц типа InSb, GaAs и AlAs в гетероструктурах с квантовыми ямами (Al,Ga)Sb/InAs. Максимальная критическая температура формирования планарной гетерограницы типа InSb на буферном слое (Al,Ga)Sb T~ 390oC, полученная из сравнения давления молекул Sb4 во внешнем потоке с их равновесным давлением над напряженным монослоем на гетерогранице, хорошо согласуется с имеющимися экспериментальными данными. В противоположность этому, критическая температура образования гетерограницы типа AlAs (GaAs), соответствующая началу интенсивного переиспарения As, имеет величину много большую, чем обыкновенно используемые температуры роста (350-550oC).