Вышедшие номера
Электрофизические свойства твердых растворов p-GaAs1-xSbx, легированных германием
Аллен Т.Ю.1, Полянская Т.А.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 20 августа 1996 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1997 г.

Были исследованы эпитаксиальные пленки p-GaAs1-xSbx, легированные Ge (x=0/0.1; NGe=0.01/ 10 ат% в жидкой фазе; концентрация дырок при комнатной температуре (0.06-40)· 1018 см-3 ), выращенные методом жидкофазной эпитаксии. Обнаружено, что при одной и той же концентрации Ge в жидкой фазе концентрация дырок в твердом растворе примерно в 2 раза больше, чем в GaAs, независимо от содержания Sb. Найдены энергия активации германиевого акцептора varepsilon1=(22±2) мэВ и критическая концентрация перехода металл-диэлектрик pc=(3.9±0.3)· 1018 см-3 для x=0.06.