Вышедшие номера
Рекомбинационно-стимулированный отжиг в слоях GaAs и AlGaAs
Соболев М.М.1, Абрамов А.В.1, Дерягин Н.Г.1, Дерягин А.Г.1, Кучинский В.И.1, Папенцев М.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 2 ноября 1995 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1996 г.

Эпитаксиальные слои GaAs и AlGaAs, выращенные при сверхвысоких скоростях охлаждения, исследовались с помощью измерений спектров по методу DLTS и фотолюминесценции. Было обнаружено, что неравновесные условия роста приводят к формированию дефектов, характерных для радиационно-облученных GaAs и AlGaAs и связанных с центрами типа V As и AsGa. После облучения этих слоев лазером с длиной волны lambda=0.51 мкм наблюдались значительные изменения в спектрах DLTS для GaAs и AlGaAs и спектрах фотолюминесценции AlGaAs. Эти изменения связываются с процессом частичного оптически индуцированного отжига дефектов и с процессом рекомбинационно-стимулированной диффузии донорной примеси (D), приводящим к образованию комплекса V As-D.