Вышедшие номера
Встраивание As в эпитаксиальные слои GaN при молекулярно-лучевой эпитаксии
Бер Б.Я.1, Меркулов А.В.1, Новиков С.В.1, Третьяков В.В.1, Ченг Т.С.1, Фоксон С.Т.1, Дженкинс Л.С.1, Хупер С.Е.1, Лаклисон Д.Е.1, Ортон Д.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 12 сентября 1995 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 1996 г.

Вхождение As в эпитаксиальные слои GaN, полученные методом молекулярно-лучевой эпитаксии, было исследовано с использованием методов вторичной ионной масс-спектроскопии, оже-электронной спектроскопии, рентгеноспектрального микроанализа, растровой электронной микроскопии и рентгеновской дифрактометрии. Было определено значение предельной растворимости As в GaN на уровне (1-2)· 1019 см-3, что соответствует концентрации порядка 0.04 ат %.