Вышедшие номера
Трансформация радиационных дефектов и их скопление при имплантации ионов B+ в кремнии
Антонова И.В.1, Шаймеев С.С.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 18 апреля 1994 г.
Выставление онлайн: 19 марта 1995 г.

Проведено исследование кинетики накопления и трансформации радиационных дефектов при имплантации ионов B+ с энергией 135 кэВ в n-кремний в интервале доз 1011/3· 1013 см-2. Экспериментально обнаружены качественные изменения в DLTS-спектрах электрически активных дефектов в запрещенной зоне кремния, а именно: а) появление новых пиков - ловушек для неосновных носителей заряда с аномально большим сечением захвата, возрастающим по мере набора дозы ионов; б) увеличение расчетных значений энергии уровней радиационных дефектов (A-центров, E-центров, дивакансий) при одновременном возрастании сечения захвата носителей заряда на них; в) возникновение потенциального барьера для захвата основных носителей заряда на центры. Эти изменения связываются с процессами роста и трансформации дефектных областей. Показано, что пространственное разделение подвижных точечных дефектов играет определяющую роль в кинетике роста крупных дефектных скоплений, их формирование существенно зависит от примесного состава кристалла, причем наличие примесей, активно взаимодействующих с подвижными точечными дефектами, повышает дозу, при которой происходит качественная трансформация радиационных дефектов. В частности, в материалах Si-CZ (получение методом Чохральского) и Si-FZ (получение методом бестигельной зонной плавки) эти дозы составляют 3·1012 и 3·1011 см-2 соответственно.