Вышедшие номера
Оптические свойства эпитаксиальных слоев твердых растворов AlxIn1-xSb
Комков О.С.1, Семенов А.Н.2, Фирсов Д.Д.1, Мельцер Б.Я.2, Соловьев В.А.2, Попова Т.В.2, Пихтин А.Н.1, Иванов С.В.2
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 28 апреля 2011 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2011 г.

Проведены оптические исследования ненапряженных слоев узкозонных полупроводниковых твердых растворов AlxIn1-xSb, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках полуизолирующего GaAs с использованием буферного слоя AlSb. Состав твердых растворов изменялся в пределах x=0-0.52 и контролировался методом рентгеноспектрального микроанализа. Ширина запрещенной зоны Eg определялась по краю фундаментального поглощения с учетом непараболичности зоны проводимости. Уточненный коэффициент нелинейности полученной зависимости Eg(x) для AlxIn1-xSb составил 0.32 эВ, что на 0.11 эВ ниже общепринятого значения.