Вышедшие номера
Электролюминесценция на длине волны 1.54 мкм в структурах Si : Er/Si, выращенных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии
Кузнецов В.П.1, Ремизов Д.Ю.2, Шабанов В.Н.1, Рубцова Р.А.1, Степихова М.В.2, Крыжков Д.И.2, Шушунов А.Н.1, Белова О.В.1, Красильник З.Ф.2, Максимов Г.А.1
1Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Поступила в редакцию: 30 ноября 2005 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2006 г.

В диодных структурах Si : Er/Si, выращенных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии в вакууме ~10-7 мбар при температуре 520-580oC, исследована интенсивность электролюминесценции на длине волны 1.54 мкм при комнатной температуре в зависимости от концентрации и распределения эрбия и донорных примесей в области объемного заряда (ОПЗ), а также от толщины ОПЗ. Найдены пути получения электролюминесценции в диодах, имеющих широкую ОПЗ (0.1-1 мкм). Найдены длина пробега электронов при взаимодействии с центрами Er и значение пороговой энергии свободного электрона, необходимой для возбуждения электрона в оболочке Er. Экспериментально определены значения напряженности электрического поля при пробое кремниевых p-i-n-диодов, легированных и нелегированных Er. Предложена модель взаимодействия горячих электронов с центрами Er. PACS: 73.20.Hb, 73.40.Lq, 78.60.Fi, 85.30.Kk