Вышедшие номера
Влияние буферного слоя por-Si  на оптические свойства эпитаксиальных гетероструктур InxGa1-xN/Si(111) с наноколончатой морфологией пленки
Переводная версия: 10.1134/S1063782619010172
Середин П.В.1, Голощапов Д.Л.1, Золотухин Д.С.1, Леньшин А.С.1, Лукин А.Н.1, Мизеров А.М.2, Никитина Е.В.2, Арсентьев И.Н.3, Leiste Harald4, Rinke Monika4
1Воронежский государственный университет, Воронеж, Россия
2Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
4Karlsruhe Nano Micro Facility H.-von-Helmholtz-Platz 1, Eggenstein-Leopoldshafen, Germany
Email: paul@phys.vsu.ru
Поступила в редакцию: 12 апреля 2018 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2018 г.

С использованием метода молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота на подложке монокристаллического кремния c-Si(111) и подложке с нанопористым буферным подслоем (por-Si) нами были выращены интегрированные гетероструктуры с наноколончатой морфологией пленки InxGa1-xN. С привлечением комплекса спектроскопических методов анализа было показано, что рост наноколонок InxGa1-xN на нанопористом буферном слое имеет ряд преимуществ по сравнению с ростом на c-Si. Данные pамановской и УФ-спектроскопии подтверждают рост наноколончатой структуры, а также находятся в согласии с данными рентгеновской дифракции из нашей предыдущей работы о том, что слой InxGa1-xN находится в напряженном, нерелаксированном состоянии. Рост наноколонок InxGa1-xN на пористом слое Si положительно отражается на оптических свойствах гетероструктур. При неизменной полуширине эмиссионной линии в спектре ФЛ интенсивность квантового выхода от образца гетероструктуры, выращенной на пористом буферном слое Si, выше на величину ~25%, чем интенсивность от пленки, выращенной на кристаллическом кремнии.