Вышедшие номера
Участие электронной подсистемы кристалла в реакциях распада комплексов дефектов в полупроводниках
Бояркина Н.И.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 12 июля 1999 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2000 г.

Рассмотрены реакции распада комплексов дефектов в полупроводниках. Вклад электронной подсистемы в скорость реакции учитывается через добавку изменения энергии электронной подсистемы кристалла (в результате протекания реакции) к энергетическому барьеру реакции. Сравнение теории с экспериментом проводится на примере реакций распада E-центров в облученном кремнии n-типа проводимости, легированном фосфором. Объяснена зависимость температуры стадии изохронного отжига E-центров от концентрации донорной примеси. Первая стадия отжига (Tann~ 400 K) в низкоомном кремнии обусловлена распадом E-центров и объясняется с привлечением модели вакансии, как двойного акцепторного центра, обладающего отрицательной корреляционной энергией и значениями уровней перезарядки вакансии EV(0/-)=Ec-0.09 эВ, EV(-/-)=Ec=-0.39 эВ. Из сопоставления расчетных и экспериментальных данных получено: величина энергии диссоциации E-центра Ua0~ 0.96 эВ, фактор вырождения g-E/g0E=1/16.