Вышедшие номера
Особенности эпитаксиального роста узкозонных квантовых точек InSb на подложке InAs
Моисеев К.Д.1, Пархоменко Я.А.1, Гущина Е.В.1, Анкудинов А.В.1, Михайлова М.П.1, Берт Н.А.1, Яковлев Ю.П.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 29 января 2009 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2009 г.

В интервале температур T=420-450oC методом жидкофазной эпитаксии на подложках InAs были получены массивы когерентных квантовых точек InSb с плотностью (0.9-2)· 1010 см-2, размеры которых составляли 3 нм в высоту и 13 нм в диаметре. Обнаружен бимодальный характер распределения квантовых точек по размерам, который был объяснен комбинированным механизмом роста этих нанообъектов. Впервые изучены структурные характеристики отдельной квантовой точки InSb, сформированной на поверхности InAs, с помощью методов атомно-силовой микроскопии и просвечивающей электронной микроскопии. Для квантовых точек в системе InSb/InAs впервые наблюдались картины муаровых узоров, при этом период муара 3.5 нм соответствовал квантовым точкам InSb без примеси мышьяка. PACS: 68.37.Lp, 68.37.Ps, 81.07.Ta, 81.15.Lm