Вышедшие номера
Эволюция состава и рельефа поверхности полупроводников AIIIBV в процессе распыления ионами аргона
Иешкин А.Е. 1, Татаринцев А.А. 1, Сенатулин Б.Р. 2, Скрылева Е.А. 2
1Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (физический факультет), Москва, Россия
2Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", Москва, Россия
Email: ieshkin@physics.msu.ru, tatarintsev@physics.msu.ru
Поступила в редакцию: 13 ноября 2024 г.
В окончательной редакции: 15 января 2025 г.
Принята к печати: 15 января 2025 г.
Выставление онлайн: 13 февраля 2025 г.

Проведено систематическое исследование состава и структуры поверхности полупроводников группы AIIIBV (GaP, GaAs, GaSb, InP, InAs, InSb) после облучения ионами аргона с энергией 3 кэВ. Состав поверхности определялся с помощью рентгенфотоэлектронной спектроскопии. Полученные результаты обсуждаются с точки зрения процессов преимущественного распыления и радиационно-стимулированной сегрегации. Показано, что наблюдаемое обогащение металлическим компонентом не объясняется только этими процессами. На поверхности материалов, содержащих индий, наблюдался развитый нанорельеф в виде колонн, в то время как на поверхности GaP развития рельефа не обнаружено. Такое поведение связывается с закономерностями смачивания поверхности полупроводника компонентом, обогащающим поверхность. Ключевые слова: распыление, AIIIBV, нанорельеф, преимущественное распыление, сегрегация, РФЭС.