Эволюция состава и рельефа поверхности полупроводников AIIIBV в процессе распыления ионами аргона
Иешкин А.Е.
1, Татаринцев А.А.
1, Сенатулин Б.Р.
2, Скрылева Е.А.
21Московский государственный университет им. М.В. Ломоносова (физический факультет), Москва, Россия
2Национальный исследовательский технологический университет "МИСиС", Москва, Россия

Email: ieshkin@physics.msu.ru, tatarintsev@physics.msu.ru
Поступила в редакцию: 13 ноября 2024 г.
В окончательной редакции: 15 января 2025 г.
Принята к печати: 15 января 2025 г.
Выставление онлайн: 13 февраля 2025 г.
Проведено систематическое исследование состава и структуры поверхности полупроводников группы AIIIBV (GaP, GaAs, GaSb, InP, InAs, InSb) после облучения ионами аргона с энергией 3 кэВ. Состав поверхности определялся с помощью рентгенфотоэлектронной спектроскопии. Полученные результаты обсуждаются с точки зрения процессов преимущественного распыления и радиационно-стимулированной сегрегации. Показано, что наблюдаемое обогащение металлическим компонентом не объясняется только этими процессами. На поверхности материалов, содержащих индий, наблюдался развитый нанорельеф в виде колонн, в то время как на поверхности GaP развития рельефа не обнаружено. Такое поведение связывается с закономерностями смачивания поверхности полупроводника компонентом, обогащающим поверхность. Ключевые слова: распыление, AIIIBV, нанорельеф, преимущественное распыление, сегрегация, РФЭС.
- М.П. Михайлова, К.Д. Моисеев, Ю.П. Яковлев. ФТП, 44 (4), 291 (2019). DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59828.7328 [M.P. Mikhailova, K.D. Moiseev, Y.P. Yakovlev. Semiconductors, 53, 273 (2019)]. DOI: 10.1134/S1063782619030126)
- А.И. Стручков, К.В. Карабешкин, П.А. Карасев, А.И. Титов. ФТП, 57 (9), 738 (2023). DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59828.7328
- А.С. Токарев, О.А. Лапшина, А.А. Козырев. ФТП, 57 (1), 58 (2023). DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59828.7328 [A.S. Tokarev, O.A. Lapshina, A.A. Kozyrev. Semiconductors, 57 (1), 54 (2023)]. DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59828.7328)
- B. Rauschenbach. Low-Energy Ion Irradiation of Materials. Fundamentals and Application (Springer, 2022). DOI: 10.1007/978-3-030-97277-6
- N.Q. Lam, H. Wiedersich. Methods B, 18, 471 (1986). DOI: 10.1016/S0168-583X (86)80073-8
- J.B. Malherbe. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci., 19 (2), 55 (1994). DOI: 10.1080/10408439408244588
- J.B. Malherbe. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci., 19 (3), 129 (1994). DOI: 10.1080/10408439408244589
- S. Facsko, T. Dekorsy, C. Koerdt, C. Trappe, H. Kurz, A. Vogt, H.L. Hartnagel. Science, 285, 1551 (1999). DOI: 10.1126/science.285.5433.1551
- S. Le Roy, E. Barthel, N. Brun, A. Lelarge, E. S nderg rd. J. Appl. Phys., 106, 094308 (2009). DOI: 10.1063/1.3243333
- O. El-Atwani, S.A. Norris, K. Ludwig, S. Gonderman, J.P. Allain. Sci. Rep., 5, 18207 (2015). DOI: 10.1038/srep18207
- www.srim.org
- www.quases.com/products/quases-imfp-tpp2m
- T.K. Chini, J. Kato, M. Tanemura, F. Okuyama. Methods B, 95, 313 (1995). DOI: 10.1016/0168-583X (94)00539-7
- E. Trynkiewicz, B.R. Jany, D. Wrana, F. Krok. Appl. Surf. Sci., 427, 349 (2018). DOI: 10.1016/j.apsusc.2017.08.240
- С.П. Зимин, И.И. Амиров, М.С. Тиванов, Н.Н. Колесников, О.В. Королик, Л.С. Ляшенко, Д.В. Жигулин, Л.А. Мазалецкий, С.В. Васильев, О.B. Савенко. ФТТ, 65 (4), 692 (2023). DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59828.7328 [S.P. Zimin, I.I. Amirov, M.S. Tivanov, N.N. Kolesnikov, O.V. Korolik, L.S. Lyashenko, D.V. Zhyhulin, L.A. Mazaletskiy, S.V. Vasilev, O.V. Savenko. Phys. Solid State, 65 (4), 671 (2023).] DOI: 10.61011/FTP.2024.12.59828.7328
- S.P. Zimin, N.N. Kolesnikov, I.I. Amirov, V.V. Naumov, E.S. Gorlachev, S. Kim, N.H. Kim. Crystals, 12, 111 (2022). DOI: 10.3390/cryst12010111
- I. Sulania, P. Kumar, P.K. Priya, H.P. Bhasker, U.B. Singh, R.K. Karn, C. Tyagi, R.P. Yadav. Rad. Phys. Chem., 199, 110353 (2022). DOI: 10.1016/j.radphyschem.2022.110353
- A. Hernandez, Y. Kudriavtsev, C. Salinas-Fuentes, C. Hernandez-Gutierrez, R. Asomoza. Vacuum, 171, 108976 (2020). DOI: 10.1016/j.vacuum.2019.108976
- D. Xia, Y.B. Jiang, J. Notte, D. Runt. Appl. Surf. Sci., 538, 147922 (2021). DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.147922
- Y.R. Luo. Comprehensive Handbook of Chemical Bond Energies (CRC Press, 2007)
- П. Зигмунд. Распыление ионной бомбардировкой, общие теоретические представления. В сб.: Распыление твердых тел ионной бомбардировкой I, под ред. Р. Бериш (М., Мир, 1984) с. 23. [P. Sigmund. Sputtering by ion bombardment theoretical concepts. In: Sputtering by Particle Bombardment I, ed. by R. Behrisch (Springer Verlag, Berlin, 1981)]
- H. Gades, H.M. Urbassek. Nucl. Instrum. Meth. B, 88, 218 (1994). DOI: 10.1016/0168-583X (94)95316-3
- M.P. Seah, T.S. Nunney. J. Physica D, 43 (25), 253001 (2010). DOI: 10.1088/0022-3727/43/25/253001
- D.R. Lide (ed.). Handbook of Chemistry and Physics (CRC Press, 2004)
- M. Tanemura, M. Ukita, F. Okuyama. Surf. Sci., 426, 141 (1999). DOI: 10.1016/S0039-6028(99)00174-0
- T. Aoyama, M. Tanemura, F. Okuyama. Appl. Surf. Sci., 100/101, 351 (1996). DOI: 10.1016/0169-4332(96)00240-1
- V.S. Chernysh, A.E. Ieshkin, D.S. Kireev, A.A. Tatarintsev, B.R. Senatulin, E.A. Skryleva. Nucl. Instrum. Meth. B, 554, 165463 (2024). DOI: 10.1016/j.nimb.2024.165463
- M.A. Lively, B. Holybee, M. Toriyama, S. Facsko, J.P. Allain. Sci. Rep., 10, 8253 (2020). DOI: 10.1038/s41598-020-64971-9
- S. Valeri, M. Lolli. Surf. Interf. Anal., 16, 59 (1990). DOI: 10.1002/sia.740160115
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.