Вышедшие номера
Создание темплейтов для гомоэпитаксиального роста 3C-SiC методом прямого сращивания пластин карбида кремния различающихся политипов
РФФИ, Конкурс на лучшие проекты фундаментальных научных исследований, 20-02-00117
Мынбаева М.Г. 1, Амельчук Д.Г. 1, Смирнов А.Н. 1, Никитина И.П.1, Лебедев С.П. 1, Давыдов В.Ю. 1, Лебедев А.А. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: mgm@mail.ioffe.ru, amelchuk.dmitriy@mail.ioffe.ru, alex.smirnov@mail.ioffe.ru, irina.nikitina45@gmail.com, lebedev.sergey@mail.ioffe.ru, valery.davydov@mail.ioffe.ru, shura.lebe@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 30 августа 2022 г.
В окончательной редакции: 9 ноября 2022 г.
Принята к печати: 10 ноября 2022 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2022 г.

Реализован подход прямого сращивания пластин SiC различающихся политипов, который позволяет переносить гетероэпитаксиальные слои кубического политипа 3C-SiC, выращенные химическим осаждением из газовой фазы, на пластину гексагонального политипа 6H-SiC с целью создания комбинированной подложки для проведения гомоэпитаксии. Результаты структурной характеризации показали, что качество сублимационной эпитаксии 3C-SiC на комбинированных подложках находится на современном уровне эпитаксии кубического карбида кремния методом химического осаждения из газовой фазы. Получено подтверждение того, что именно 3C-SiC слой, перенесенный на подложку 6H-SiC, играет роль кристаллической "затравки", задающей рост кубического политипа. Ключевые слова: карбид кремния, политипы, прямое сращивание, темплейты, сублимационная эпитаксия.