Вышедшие номера
Рассеяние электронов в гетероструктурах AlGaN/GaN с двумерным электронным газом
Протасов Д.Ю.1, Малин Т.В.1, Тихонов А.В.1, Цацульников А.Ф.2, Журавлев К.С.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 19 апреля 2012 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2012 г.

Исследованы температурные и концентрационные зависимости подвижности электронов в гетероструктурах AlGaN/GaN. В исследуемых образцах подвижность при T=300 K лежала в диапазоне 450-1740 см2/(В · с). Установлено, что для образцов с малой подвижностью (менее 1000 см2/(В · с)) вплоть до комнатных температур доминирует рассеяние на заряженных центрах, связанных с неупорядоченным пьезоэлектрическим зарядом на гетерогранице вследствие ее шероховатости либо с пьезоэлектрическим зарядом - как в барьере Al-GaN вследствие неоднородности сплава, так и в деформационном поле вокруг дислокаций. Для образцов с подвижностью, превышающей 1000 см2/(В · с), при T=300 K доминирует рассеяние на оптических фононах. При температурах менее 200 K доминирует рассеяние на неоднородности сплава, шероховатостях гетерограницы и дислокациях. Уменьшение влияния рассеяния на шероховатостях при улучшении морфологии гетерограницы увеличивает подвижность с 1400 см2/(В · с) до 1700 см2/(В · с) при комнатной температуре.