Вышедшие номера
Cвойства полуполярного GaN, выращенного на подложке Si(100)
Переводная версия: 10.1134/S1063782619070054
Соломникова А.В.1, Бессолов В.Н.2, Коненкова Е.В.2, Орлова Т.А.2, Родин С.Н.2, Середова Н.В.2, Щеглов М.П.2, Кибалов Д.С.3, Смирнов В.К.3
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
3ООО "Квантовый кремний", Москва, Россия
Email: bes.triat@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 17 декабря 2018 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2019 г.

Представлены результаты исследований полуполярных слоев GaN, синтезированных на наноструктурированной подложке Si(100). Показано, что применение нанорельефа Si(100) в сочетании с нанополосками SixNy на вершинах наноструктур при газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений может приводить к формированию слоев GaN(1012), а дополнительное использование буферного слоя SiC позволяет получить слои GaN(1011) c полушириной кривой дифракции omegatheta~35'. Обнаружено, что люминесцентные свойства полуполярных слоев обусловлены преимущественно дефектами упаковки BSFS-I1 (basal plane stacking faults), в отличие полярных слоев, где в основном они обусловлены рекомбинацией экситонов. Ключевые слова: полуполярный нитрид галлия, фотолюминесценция, газофазная эпитаксия.