Вышедшие номера
Низкотемпературный отжиг слаболегированных слоев n-4H-SiC после облучения быстрыми электронами
Переводная версия: 10.1134/S1063782619070133
Корольков O.M.1, Козловский В.B.2, Лебедев A.A.3, Слепчук Н.1, Toompuu J.1, Rang T.1
1Tallinn University of Technology, Tallinn, Estonia
2Санкт-Петербургский политехнический университет Петра Великого, Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: shura.lebe@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 21 февраля 2019 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2019 г.

Исследовано влияние низкотемпературного (до 600oС) изотермическoго и изохронного отжигов на изменение электрофизических характеристик, облученных JBS диодов Шоттки на основе n-4H-SiC. Облучение выполнялось электронами с энергией 0.9 МэВ дозой 1·1016 см-2. Показано, что основное восстановление прямых вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик облученных диодов происходит при температурах отжига до 300oС. При увеличении температуры отжига до 500oС происходит отжиг практически 90% введенных облучением быстрыми электронами радиационных дефектов. Для использования в инженерии радиационных дефектов (Radiation Defect Engineering) рекомендуемые режимы стабилизирующего отжига могут составлять 500oС, 30 мин. Ключевые слова: карбид кремния, облучение электронами, радиационные дефекты, отжиг.