Вышедшие номера
Особенности электрохимического вольт-фарадного профилирования арсенид-галлиевых светоизлучающих и pHEMT-структур с квантово-размерными областями
Переводная версия: 10.1134/S1063782618080250
Яковлев Г.Е. 1, Дорохин М.В. 2, Зубков В.И. 1, Дудин А.Л.3, Здоровейщев А.В. 2, Малышева Е.И.2, Данилов Ю.А.2, Звонков Б.Н.2, Кудрин А.В.2
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
3Акционерное общество "Светлана-Рост", Санкт-Петербург, Россия
Email: geyakovlev@etu.ru, dorokhin@nifti.unn.ru, vzubkovspb@mail.ru
Поступила в редакцию: 21 августа 2017 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2018 г.

Методом электрохимического вольт-фарадного профилирования исследованы квантово-размерные светоизлучающие и транзисторные гетероструктуры на основе GaAs, содержащие области delta-легирования, квантовые ямы InGaAs/GaAs и приповерхностные слои квантовых точек InAs/GaAs. Получены профили распределения концентрации свободных носителей заряда по глубине структур, определены накопленные в квантовой яме и массиве квантовых точек заряды, а также степени легирования эмиттерного и delta-слоев. Проведено моделирование зонной структуры и распределения концентрации носителей заряда по глубине образцов с различной геометрией квантовых ям. Проанализированы особенности электрохимического вольт-фарадного профилирования в гетероструктурах различного типа. Для эффективного разделения откликов от близко расположенных слоев, в частности квантовой ямы и delta-слоя, предложен метод интеграции вольт-фарадных характеристик на каждом этапе травления.