Вышедшие номера
Электрофизические свойства и механизмы переноса в тонких пленках материалов фазовой памяти на основе халькогенидных полупроводников квазибинарного разреза GeTe-Sb2Te3
Министерство образования и науки Российской Федерации, Исследования и разработки по приоритетным направлениям развития научно-технологического комплекса России на 2014-2020 годы, 14.578.21.0085 (RFMEFI57814X0085)
Шерченков А.А. 1, Козюхин С.А. 2, Лазаренко П.И. 1, Бабич А.В. 1, Богословский Н.А. 3, Сагунова И.В. 1, Редичев Е.Н. 1
1Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники", Москва, Зеленоград, Россия
2Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова Российской академии наук, Москва, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: aa_sherchenkov@rambler.ru, sergkoz@igic.ras.ru, aka.jum@gmail.com, drent@yandex.ru, nikitabogoslovskiy@gmail.com, sagunova@list.ru , jack_71@front.ru
Поступила в редакцию: 12 апреля 2016 г.
Выставление онлайн: 20 января 2017 г.

Исследованы температурные зависимости удельного сопротивления и вольт-амперных характеристик тонких пленок материалов фазовой памяти на основе халькогенидных полупроводников квазибинарного разреза GeTe-Sb2Te3: Ge2Sb2Te5, GeSb2Te4 и GeSb4Te7. Изучено влияние изменения состава по линии квазибинарного разреза на электрофизические характеристики и механизмы переноса тонких пленок. Установлено наличие трех диапазонов с различной зависимостью между током и напряжением. Оценено положение и концентрация энергетических уровней, контролирующих перенос носителей. Полученные результаты показывают, что электрофизические свойства тонких пленок могут существенно изменяться при движении вдоль линии квазибинарного разреза GeTe-Sb2Te3, что важно для целенаправленной оптимизации технологии фазовой памяти. DOI: 10.21883/FTP.2017.02.44096.8270