Фотовольтаический эффект в области примесного поглощения в Si-структурах с блокированной проводимостью по примесной зоне
Аронзон Б.А.1,2, Асадаускас Л.3,4, Бразис Р.3,4, Ковалев Д.Ю.1, Леотин Ж.3, Рыльков В.В.1,2
1Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", Москва, Россия
2Научно-исследовательский центр прикладных проблем электродинамики, Москва, Россия
3Laboratoire de Physique de la Matiere Condense, Universite Paul Sabatier, Toulouse Cedex, France
4Semiconductor Physics Institute, Vilnius, Lithuania
Поступила в редакцию: 8 сентября 1998 г.
Выставление онлайн: 19 марта 1999 г.
Исследована полевая зависимость фотопроводимости двухслойных Si : Sb- и Si : B-структур с блокированной проводимостью по примесной зоне с разной толщиной нелегированного (блокирующего) слоя. Концентрация примесей в легированном (активном) слое составляла ~ 1018 см-3. Измерения проводились в диапазоне температур T=4-15 K как при больших (Phi~ 1016 фотон/см2·с), так и малых (Phi<1014 фотон/см2·с) потоках падающих фотонов. Обнаружен фотовольтаический эффект, проявляющийся в Si : B-структурах с малой толщиной (3 мкм) блокирующего слоя. Установлено, что фотоэдс возникает при энергиях квантов, больших энергии ионизации бора, причем ее величина не зависит от интенсивности фотовозбуждения (при Phi>1013 фотон/см2·с) и в пределе низких температур близка к энергии активации прыжковой проводимости varepsilon3 активного слоя. Фотовольтаический эффект объясняется баллистическим пролетом блокирующего слоя дырками, фотоэмиттированными из контакта, и последующим их остыванием в активном слое, а также наличием потенциального барьера ~varepsilon3 между активным и блокирующим слоями. С учетом этих факторов развита модель, описывающая основные закономерности в поведении фотоэдс в зависимости от температуры, интенсивности и энергии квантов возбуждающего излучения.
- S.M. Ryvkin. Photoelectric Effects in Semiconductors. (Consultants Bereau, N. Y., 1964)
- M.D. Petroff, M.G. Stapelbroek, W.A. Kleinhans. Appl. Phys. Lett., 51, 406 (1987)
- J.E. Huffman, A.G. Crouse, B.L. Halleck, T.V. Downes, T. Herter. J. Appl. Phys., 72, 273 (1992)
- S. Pasquier, G. Sirmain, C. Meny, A. Murray, M. Griffin, PAde L. Essaleh, J. Galibert, J. Leotin. Proc. 8th Int. Conf. on "Millimeter and submillimeter waves and applications" (San Diego, 1994) p. 35
- S. Pasquier, C. Meny, L. Asadauskas, J. Leotin, B.A. Aronzon, V.V. Rylkov, V. Conedera, N. Fabre, S. Regolini, C. Morin. J. Appl. Phys. 83, 4222 (1998)
- Б.И. Шкловский, А.Л. Эфрос. Электронные свойства легированных полупроводников (М., Наука, 1979)
- А.Г. Ждан, А.М. Козлов, С.Н. Клемин, В.В. Рыльков. ПТЭ, вып. 2, 189 (1994)
- D.V. Fischer, J.J. Rome. Phys. Rev. B, 27, 4826 (1983)
- J.A. Chroboczek, F.H. Pollak, H.F. Staunton. Phyl. Mag. B, 50, 113 (1984)
- Б.И. Шкловский. ФТП, 6, 1197 (1972)
- Д.И. Аладашвили, З.А. Адамия, К.Г. Лавдовский, Е.И. Левин, Б.И. Шкловский. ФТП, 23, 213 (1989)
- S.C. Jain. Germanium-Silicon Strained Layers and Heterostructures. Advances in Electronics and Electron Physics, Suppl. 24 (Academic Press, 1994)
- C.G. Van de Walle, R.M. Martin. Phys. Rev. B, 34, 5621 (1986)
- J.M. Bass, C.C. Matthai. Semicond. Sci. Technol., 5, 707 (1990)
- L. Colombo, R. Resta, S. Baroni. Phys. Rev. B, 44, 5572 (1991)
- Е.Б. Гольдгур, Р.И. Рабинович. ЖЭТФ, 84, 1109 (1983)
- V.N. Abakumov, V.I. Perel, I.N. Yassievich. Nonradiative Recombination in Semiconductors (North-Holland, Amsterdam, Oxford, N. Y., Tokyo, 1991)
- С. Зи. Физика полупроводниковых приборов (М., Мир, 1984) т. 2, приложение
- В.Н. Абакумов, В.И. Перель, И.Н. Яссиевич. ФТП, 12, 3 (1978)
- Л.А. Ворожцова, Е.М. Гершензон, Ю.А. Гурвич, Ф.М. Исмагилова, А.П. Мельников. ЖЭТФ, 94, 350 (1988)
- В.В. Рыльков. ФТП, 22, 1661 (1988)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.