Вышедшие номера
Фотовольтаический эффект в области примесного поглощения в Si-структурах с блокированной проводимостью по примесной зоне
Аронзон Б.А.1,2, Асадаускас Л.3,4, Бразис Р.3,4, Ковалев Д.Ю.1, Леотин Ж.3, Рыльков В.В.1,2
1Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", Москва, Россия
2Научно-исследовательский центр прикладных проблем электродинамики, Москва, Россия
3Laboratoire de Physique de la Matiere Condense, Universite Paul Sabatier, Toulouse Cedex, France
4Semiconductor Physics Institute, Vilnius, Lithuania
Поступила в редакцию: 8 сентября 1998 г.
Выставление онлайн: 19 марта 1999 г.

Исследована полевая зависимость фотопроводимости двухслойных Si : Sb- и Si : B-структур с блокированной проводимостью по примесной зоне с разной толщиной нелегированного (блокирующего) слоя. Концентрация примесей в легированном (активном) слое составляла ~ 1018 см-3. Измерения проводились в диапазоне температур T=4-15 K как при больших (Phi~ 1016 фотон/см2·с), так и малых (Phi<1014 фотон/см2·с) потоках падающих фотонов. Обнаружен фотовольтаический эффект, проявляющийся в Si : B-структурах с малой толщиной (3 мкм) блокирующего слоя. Установлено, что фотоэдс возникает при энергиях квантов, больших энергии ионизации бора, причем ее величина не зависит от интенсивности фотовозбуждения (при Phi>1013 фотон/см2·с) и в пределе низких температур близка к энергии активации прыжковой проводимости varepsilon3 активного слоя. Фотовольтаический эффект объясняется баллистическим пролетом блокирующего слоя дырками, фотоэмиттированными из контакта, и последующим их остыванием в активном слое, а также наличием потенциального барьера ~varepsilon3 между активным и блокирующим слоями. С учетом этих факторов развита модель, описывающая основные закономерности в поведении фотоэдс в зависимости от температуры, интенсивности и энергии квантов возбуждающего излучения.