Механизм анодной электролюминесценции пористого кремния в электролитах
Горячев Д.Н.1, Беляков Л.В.1, Полисский Г.2, Сресели О.М.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Технический университет, Мюнхен, Гархинг, Германия
Поступила в редакцию: 9 декабря 1997 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1998 г.
Предложен и детально проанализирован механизм переноса носителей зарядов из электролита в пористый кремний, объясняющий его эффективную анодную электролюминесценцию. Показано, что при протекании тока через межфазную границу в электролите накапливаются электроактивные частицы - атомарные водород и кислород, являющиеся по отношению к пористому кремнию эффективными донорами и акцепторами электронов. Электролюминесценция в видимой области спектра возникает благодаря биполярной инжекции электронов и дырок из электролита в высокоомные квантово-размерные кристаллиты пористого кремния. Показано, что этот механизм в основных своих чертах является общим как для анодной, так и для катодной электролюминесценции, чем объясняется известное сходство этих двух процессов. Раскрыты детальные физико-химические процессы, лежащие в основе анодной люминесценции.
- P.M.M. Bressers, J.W.J. Knaper, E.A. Meulenkamp, J.J. Kelly. Appl. Phys. Lett., 61, 108 (1992)
- L.T. Canham, W.Y. Leong, M.I.J. Beale, T.I. Cox, L. Taylor. Appl. Phys. Lett., 61, 2563 (1992)
- Д.Н. Горячев, О.М. Сресели, И.Д. Ярошецкий. ФТП, 27, 1815 (1993) [Semiconductors, 27, 999 (1993)]
- A. Halimaoui, C. Oules, G. Bomchil, A. Bsiesy, F. Gaspard, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller. Appl. Phys. Lett., 59, 304 (1991)
- P.C. Searson, S.M. Prokes, O.J. Glembocki. J. Electrochem. Soc. 140, 3327 (1993)
- Д.Н. Горячев, О.М. Сресели, Л.В. Беляков. ФТП, 31, 1383 (1997) [Semiconductors, 31 716 (1997)].
- O. Sreseli, D. Goryachev, G. Polisski, L. Belyakov, F. Koch. In: Pits and Pores: Formation, Properties and Significance for Advanced Luminescent Materials, ed. by D.J. Lockwood, P. Schmuki and A. Bsiesy (New Jersey, Pennington, USA, Electrochemical Sosiety inc., 1997), PV97-7, p. 184
- L.T. Canham. Appl. Phys. Lett., 57, 1046 (1990)
- O.M. Sreseli, G. Polisski, D. Kovalev, D.N. Goryachev, L. V. Belyakov, F. Koch. In: Advanced Luminescent Materials, ed, by D.J. Lockwood, P.M. Fauchet, N. Koshida and S.R.J. Brueck (New Jersey, Pennington, USA, Electrochemical Sosiety inc., 1995), PV95-25, p. 24.
- Д.Н. Горячев, О.М. Сресели, Л.В. Беляков. Письма ЖТФ, 23, 58 (1997) [Technic. Phys. Lett., 23, 35 (1997)]
- M. Ligeon, F. Muller, R. Herino, F. Gaspard, J.C. Vial, R. Romestain, S. Billat, A. Bsiesy. J. Appl. Phys. 74, 1264 (1993)
- M.I.J. Beale, N.I. Cox, L.T. Canham, D. Brumhead. In: Microcrystalline Semiconductors: Materials Science and Diveces, ed. by P.M. Fauchet et al. (Pittsburg, PA, USA, 1993) [MRS Proc., 283, 377 (1993)]
- A. Bsiesy, M.A. Hory, F. Gaspard, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller, R. Rommestain, J.C. Vial. In: Microcrystalline and Nanocrystalline Semiconductors (Pittsburg, PA, USA, 1995) [MRS Proc., 358, 619 (1995)]
- В.А. Мямлин, Ю.В. Плесков. Электрохимия полупроводников (М., Наука, 1965) [V.A. Myamlin, Yu.V. Pleskov. Electrochemistry of Semiconductors (N.Y., Plenum Press, 1967)]
- С.О. Изидинов, А.П. Блохина, Л.А. Исмайлова. Электрохимия, 24, 1220 (1988)
- Y. Kang, J. Jorne. J. Electrochem. Soc., 144, 3104 (1997)
- Д. Добош. Электрохимические константы (М., Мир, 1980). [Пер. с англ. D. Dobos. Electrochemical Data (Budapest, Academiai Kiado, 1977)]
- Л.В. Беляков, Д.Н. Горячев, Д.И. Ковалев, Ф. Кох, В. Петрова-Кох, О.М. Сресели, И.Д. Ярошецкий. ФТП, 29, 1288 (1995) [Semiconductors, 29, 667 (1995)]
- С.Р. Моррисон. Химическая физика поверхности твердого тела (М., Мир, 1980), [Пер. с англ.: S.R. Morrison. The Chemical Physics of Surfaces (N.Y.--London, Plenum Press, 1977)]
- A. Halimaoui. Appl. Phys. Lett., 63, 1264 (1993)
- A. Bsiesy, F. Muller, M. Ligeon, F. Gaspard, K. Herino, R. Romestain, J.C. Vial. Phys. Rev. Lett., 71, 637 (1993)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.