Вышедшие номера
Формирование электрически активных центров за областью торможения ионов при высокотемпературной имплантации в кремний
Антонова И.В.1, Качурин Г.А.1, Тысченко И.Е.1, Шаймеев С.С.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 11 мая 1995 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1996 г.

Методом DLTS исследовались дефекты в кремнии, создаваемые ионной имплантацией за пределами области торможения ионов. После имплантации ионов при температуре мишени Ti=<q 700 oC в кремнии были обнаружены дискретные уровни, заполнение которых зависело логарифмически от длительности заполняющего импульса. При имплантации с Ti>=q 800 oC в спектре были видны полосы из нескольких уровней. Для них были характерны быстрое (t<10 мкс) одновременное заполнение и корневая зависимость их концентрации от дозы ионов. При температуре мишени Ti=1000 oC формирования уровней не было обнаружено. Предполагается, что при Ti=<q 700 oC за образование уровней ответственны близко расположенные точечные центры (например, внутри стержнеобразных дефектов), заполнение которых затруднено кулоновским отталкиванием. При температуре мишени между 800 и 100 oC образуются дефекты, расположенные на краях дислокационных петель.