Вышедшие номера
Влияние изовалентной примеси сурьмы на образование электрически активных дефектов в n-GaAs, полученном жидкофазной эпитаксией из расплава висмута
Самойлов В.А.1, Якушева Н.А.1, Принц В.Я.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 3 сентября 1993 г.
Выставление онлайн: 20 августа 1994 г.

Методом релаксационной спектроскопии глубоких уровней исследовано влияние легирования эпитаксиального арсенида галлия, выращенного из расплава висмута, изовалентной примесью Sb на спектр дефектов с глубокими уровнями. Обнаружено, что в дополнение к характерным для данных условий роста электронным ловушкам EL2 (Ec-0.79 эВ) и EL5 (Ec-0.41 эВ) при легировании сурьмой вводятся новые дефекты ELSb (Ec-0.53 эВ), концентрация которых возрастает с ростом уровня легирования более чем на 3 порядка. При содержании сурьмы в кристалле порядка 1 ат% концентрация уровней EL5 уменьшается на несколько порядков, а концентрация уровней EL2 возрастает в 3-4 раза. Сечения захвата электронов на уровни EL2 и ELSb мало отличаются в широком диапазоне температур 77-300 K. Результаты хорошо объяснимы, если считать, что уровень ELSb обусловлен дефектом Sb Ga, а уровень EL5 - дивакансией V Ga-V As.