Вышедшие номера
Механизм локальной аморфизации сильно легированного интерметаллического полупроводника Ti1-xVxCoSb
Ромака В.А.1,2, Стаднык Ю.В.3, Аксельруд Л.Г.3, Ромака В.В.3, Fruchart D.4, Rogl P.5, Давыдов В.Н.3, Гореленко Ю.К.3
1Институт прикладных проблем механики и математики им. Я. Пидстрыгача Национальной академии наук Украины, Львов, Украина
2Национальный университет "Львовская политехника", Львов, Украина
3Львовский национальный университет им. Ивана Франко, Львов, Украина
4Лаборатория кристаллографии Национального центра научных исследований, Гренобль, Франция
5Институт физической химии университета г. Вена, А- Вена, Австрия
Поступила в редакцию: 17 июля 2007 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2008 г.

Исследованы структурные и электрокинетические характеристики, произведен расчет распределения электронной плотности интерметаллического полупроводника TiCoSb, сильно легированного донорной примесью V (уровень легирования ~9.5·1019-1.9·1021 см-3, температуры 80-380 K). Установлена различная степень заполняемости атомных позиций Co и (Ti, V) в элементарной ячейке Ti1-xVxCoSb, что эквивалентно введению в полупроводник двух сортов акцепторов. Обнаружен срыв металлической проводимости в полупроводнике n-типа при увеличении концентрации донорной примеси, что объясняется одновременной генерацией акцепторов. Показано, что численные методы расчета адекватно описывают физические процессы, если при построении решетки Вигнера-Зейтца учитывать величину заполняемости атомных позиций элементарной ячейки. Обсуждение результатов ведется в рамках модели сильно легированного и компенсированного полупроводника Шкловского-Эфроса. PACS: 71.20.Nr, 72.20.My, 72.20.Pa