Вышедшие номера
Эллипсометрический in situ контроль процессов роста буферных слоев ZnTe и CdTe в технологии молекулярно-лучевой эпитаксии кадмий-ртуть-теллура
Mинистерства науки и высшего образования Российской Федерации , 075-15-2020-797 (13.1902.21.0024).
Швец В.А. 1,2, Марин Д.В. 1,2, Якушев М.В. 1, Рыхлицкий С.В. 1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
Email: basil5353@mail.ru, marin@isp.nsc.ru, yakushev@isp.nsc.ru, rhl@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 15 июня 2023 г.
В окончательной редакции: 28 июля 2023 г.
Принята к печати: 3 августа 2023 г.
Выставление онлайн: 22 октября 2023 г.

Рассмотрены проблемы in situ эллипсометрического контроля при выращивании буферных слоев ZnTe и CdTe, предназначенных для эпитаксии кадмий-ртуть-теллура. Установлено, что для 20 нм слоев ZnTe спектральные зависимости оптических постоянных вблизи края поглощения носят размытый характер, что свидетельствует о наличии структурных дефектов в пленке. Показано, что микрорельеф поверхности роста CdTe является критерием структурного совершенства слоев и может быть измерен с помощью эллипсометра как на ранних стадиях, так и в процессе стационарного роста. Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия, in situ эллипсометрический контроль, CdTe, микрорельеф, дефекты роста.