Вышедшие номера
Плазмохимическое атомно-слоевое осаждение слоев InP и многослойных наноструктур InP/GaP на кремнии
Министерство науки и высшего образования РФ , , 0791-2023-0007
Гудовских А.С. 1,2, Уваров А.В. 1, Баранов А.И. 1, Вячеславова Е.А. 1, Максимова А.А. 1,2, Кириленко Д.А.3
1Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет имени Ж.И. Алфёрова Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: gudovskikh@spbau.ru, lumenlight@mail.ru, itiomchik@yandex.ru, cate.viacheslavova@yandex.ru, deer.blackgreen@yandex.ru, zumsisai@gmail.com
Поступила в редакцию: 24 августа 2023 г.
В окончательной редакции: 1 сентября 2023 г.
Принята к печати: 1 сентября 2023 г.
Выставление онлайн: 22 октября 2023 г.

Впервые с помощью метода плазмохимического атомно-слоевого осаждения были выращены слои InP при температуре 380oC на Si-подложках. Согласно исследованиям с помощью рентгенодифракционного анализа и просвечивающей электронной микроскопии слои имеют микрокристаллическую структуру с размером зерен 20-30 нм и преимущественной ориентацией (111). На спектрах комбинационного рассеяния света четко различим пик LO на 341.9 см-1, характерный для кристаллического InP. Микрокристаллические слои InP, выращенные на кварцевых подложках, продемонстрировали фотопроводимость 2.3 Ом-1·см-1 при освещении солнечным спектром AM1.5G (100 мВт/см2). Исследования по интеграции роста слоев бинарных соединений InP и GaP в одном процессе атомно-слоевого плазмохимического осаждения продемонстрировали принципиальную возможность контроля состава цифровых твердых растворов InP/GaP. Для цифровых твердых растворов InP/GaP характерно сливание LO пиков InP (341.9 см-1) и GaP (365 см-1) на спектрах комбинационного рассеяния света. При этом с ростом доли GaP наблюдается расширение отклика от слоя за счет сдвига края в сторону TO пика GaP (402 см-1). Исследования с помощью измерения пропускания и отражения оптических свойств микрокристаллических слоев цифровых твердых растворов InP/GaP, осажденных на прозрачные подложки, продемонстрировали возможность вариации оптической ширины запрещенной зоны в широком диапазоне 1.3-2 эВ. Ключевые слова: GaP, InP, атомно-слоевое осаждение, многослойные структуры, фотопроводимость.