Вышедшие номера
Особенности встраивания молекул Sb2 и Sb4 при молекулярно-пучковой эпитаксии твердых растворов AlGaAsSb
Семенов А.Н.1, Сорокин В.С.2, Соловьев В.А.1, Мельцер Б.Я.1, Иванов С.В.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 14 июля 2003 г.
Выставление онлайн: 18 февраля 2004 г.

Методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках GaSb, InAs и GaAs выращены эпитаксиальные слои твердых растворов AlxGa1-xAsySb1-y и GaAsySb1-y различных составов с использованием как традиционного, так и крекингового источников сурьмы. Рассчитаны коэффициенты встраивания для двух- и четырехатомных молекул сурьмы, интегрально характеризующие кинетические процессы на поверхности роста. Показаны различия во встраивании двух- и четырехатомных молекул при молекулярно-пучковой эпитаксии GaAsSb. Исследовано влияние основных технологических параметров (температуры подложки и величины падающих потоков атомов III и V групп) на состав твердых растворов и величину коэффициента встраивания сурьмы. Показано, что для случая твердых растворов (Al,Ga)AsSb величина коэффициента встраивания четырех- и двухатомных молекул сурьмы может изменяться в значительных пределах в зависимости от температуры роста и соотношения скоростей поступления атомов III группы и молекул сурьмы на поверхность роста.