Вышедшие номера
Параметры зонной структуры тонких пленок Bi1-xSbx (0≤ x≤ 0.15) на подложках с различным температурным расширением
Переводная версия: 10.1134/S1063782619050269
РФФИ, 18-32-00430
Минобрнауки России, 3.4856.2017/8.9
Суслов А.В.1, Грабов В.М.1, Комаров В.А.1, Демидов Е.В.1, Сенкевич С.В.2, Суслов М.В.1
1Российский государственный педагогический университет им. А.И. Герцена, Санкт-Петербург, Россия
2Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: a.v_suslov@mail.ru
Поступила в редакцию: 20 декабря 2018 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2019 г.

В работе представлены результаты расчета концентрации носителей заряда в пленках висмут-сурьма в интервале концентраций от 0 до 15 ат% сурьмы на подложках с различным коэффициентом температурного расширения, выполненные на основе результатов экспериментальных исследований гальваномагнитных свойств пленок. Показано значительное увеличение концентрации при использовании подложек с большим температурным расширением. Приведены результаты расчета положения валентной зоны и зоны проводимости при 77 K в зависимости от коэффициента температурного расширения используемой подложки. Показано, что под действием плоскостной деформации тонких пленок, вызванной различием температурного расширения материалов пленки и подложки, положение зоны проводимости и валентной зоны пленок изменяется относительно их положения в монокристалле соответствующего состава.