Вышедшие номера
Влияние температуры фотонного отжига на структурные и оптические свойства пленок ZnO, синтезированных методом дуального магнетронного распыления
Переводная версия: 10.1134/S106378261902026X
Зайцев С.В.1, Ващилин В.С.1, Колесник В.В.1, Лимаренко М.В.1, Прохоренков Д.С.1, Евтушенко Е.И.1
1Белгородский государственный технологический университет имени В.Г. Шухова, Белгород, Россия
Email: sergey-za@mail.ru
Поступила в редакцию: 13 июня 2018 г.
Выставление онлайн: 20 января 2019 г.

Пленки ZnO толщиной 1.4 мкм осаждали на стеклянные подложки методом дуального магнетронного распыления мишеней Zn в газовой среде аргона и кислорода. Проведены исследования зависимости структурных и оптических характеристик пленок ZnO от температуры фотонного отжига после осаждения. Установлено что, повышение температуры отжига приводит к повышению степени кристалличности пленок. Электронная микроскопия показала, что осажденное покрытие ZnO имеет столбчатую структуру, причем отжиг увеличивает плотность микроструктуры и размер кристаллита. Обнаружено, что при температуре отжига 450-650oC коэффициент оптического пропускания увеличился до значения >90% в спектральной области 400-1100 нм. Экспериментальные результаты показывают, что температура фотонного отжига в вакууме оказывает наибольшее влияние на конечные свойства покрытий ZnO.