Вышедшие номера
Расчет влияния плотности ионного тока и температуры на кинетику накопления точечных дефектов при облучении кремния легкими ионами
Переводная версия: 10.1134/S1063782618090105
Окулич Е.В.1, Окулич В.И.2, Тетельбаум Д.И.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
2Нижегородский институт управления --- филиал Российской академии народного хозяйства и государственной службы при президенте Российской Федерации, Нижний Новгород, Россия
Email: victorokulich@mail.ru
Поступила в редакцию: 14 декабря 2017 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2018 г.

Выполнены численные расчеты кинетики накопления точечных дефектов - вакансий и дивакансий при облучении кремния ионами с массами M1≤ 31 а.е.м. и энергиями E≤100 кэВ при различных условиях облучения. Использована ранее предложенная диффузионно-коагуляционная модель, но без сделанного при ее аналитической реализации приближения "слабой диффузии". Проанализированы основные особенности зависимостей концентраций вакансий и дивакансий от дозы, плотности ионного тока и температуры при облучении. Дана физическая интерпретация полученных результатов. Разработанный вычислительный комплекс является достаточно гибким, позволяя путем вариации входных параметров модели анализировать их влияние, а также при необходимости включать в рассмотрение дополнительные процессы.