Вышедшие номера
Инжекционный фотодиод на основе p-Si-n-CdS-n+-CdS-структуры
Мирсагатов Ш.А.1, Сапаев И.Б.1
1Физико-технический институт НПО ”Физика−Солнце“ Академии наук Республики Узбекистан, Ташкент, Узбекистан
Поступила в редакцию: 20 июня 2013 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2014 г.

Создан инжекционный фотодиод на основе p-Si-n-CdS-n+-CdS-структуры, который имеет высокое значение коэффициента выпрямления (105) при комнатной температуре. Показано, что световые и темновые вольт-амперные характеристики структуры имеют одинаковые закономерности. Установлено, что при плотностях тока I=10-2-5·10-4 A/см2 в структуре реализуется режим "длинных" диодов и при этом величины интегральной (Sint) и спектральной (Slambda) чувствительностей резко увеличиваются. Обнаружено, что Sint=2.8·104 A/люм (3·106A/Вт) для уровня освещенности E=0.1 люкс и Slambda=2.3·104 А/Вт при облучении лазером с lambda=625 нм и мощностью P=10 мкВт/см2 при напряжении смещения V=20 В. Установлено, что механизм усиления фототока в основном связан с модуляцией амбиполярной подвижности носителей.