Вышедшие номера
GaAs в GaSb --- напряженные наноструктуры для оптоэлектроники среднего инфракрасного диапазона
Соловьев В.А.1, Торопов А.А.1, Мельцер Б.Я.1, Терентьев Я.В.1, Кютт Р.Н.1, Ситникова А.А.1, Семенов А.Н.2, Иванов С.В.1, Motlan 3, Goldys E.M.3, Копьев П.С.1
1Физико-технический инстут им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
3Division on Information and Communication Sciences, Macquarie University, North Ryde, NSW, Australia
Поступила в редакцию: 11 декабря 2001 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2002 г.

Впервые сообщается о получении методом молекулярно-пучковой эпитаксии нового типа гетероструктур GaAs/GaSb, содержащих ультратонкие (0.8-3 монослоя) слои GaAs в GaSb, и исследовании их методами рентгеновской дифрактометрии, просвечивающей электронной микроскопии и фотолюминесценции. В таких структурах, в отличие от изученных к настоящему времени структур с самоорганизующимися квантовыми точками, слой GaAs в GaSb находится под воздействием растягивающих упругих напряжений (рассогласование решеток 7%). В структурах GaAs/GaSb обнаружена интенсивная фотолюминесценция в области волн вблизи 2 мкм при низких температурах. Показано образование квантово-размерных островков при номинальной толщине слоя GaAs 1.5 монослоя и более. Установлено, что предложенные структуры имеют зонную диаграмму типа II.