Закгейм А.Л.1, Черняков А.Е.2, Шмидт Н.М.3, Алексанян Л.А.4, Поляков А.Я.4, Васильев А.А.4, Щемеров И.В.4, Jang Lee-Woon5, Lee Sang-Ik6
1НТЦ микроэлектроники РАН, Санкт-Петербург, Россия
2НТЦ микроэлектроники Российской академии наук, Санкт-Петербург, Россия
3Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
4Университет науки и технологий " МИСиС", Москва, Россия
5The Institute for High Technology Materials and Devices, Korea University, Seoul, Republic of Korea
6Department of Materials Science and Engineering, Korea University, Seoul, Republic of Korea