ФТП, 2005, том 39, выпуск 11

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Кинетика роста тонких пленок при зародышевом механизме формирования слоев

В.Г.Дубровский , Г.Э.Цырлин

Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
Институт аналитического приборостроения Российской академии наук,
198103 Санкт-Петербург, Россия

(Получена 3 марта 2005 г. Принята к печати 15 марта 2005 г.)

Исследуется кинетическая модель роста тонкой пленки на поверхности твердого тела, справедливая для случая, когда слои формируются в результате двумерного зародышеобразования. В условиях больших пересыщений газообразной фазы получены решения для функции распределения островков по размерам на начальном этапе роста, степени заполнения подложки островками на этапе коалесценции, скорости вертикального роста пленки и шероховатости ее поверхности. Эти решения выражают структурные характеристики растущей пленки через физические константы системы (межфазовая энергия на границе газ--твердое тело, активационные барьеры диффузии и десорбции) и параметры ростового процесса (температура поверхности и скорость осаждения материала). Полученные результаты позволяют проводить расчеты ростовой динамики тонких пленок в конкретных системах.

 PDF версия (258Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2005, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster