| Содержание | Предыдущая статья | Следующая статья | Поиск |
|---|
Определение фрактальной размерности поверхности эпитаксиального -GaAs в локальном пределе
Н.А.Торхов, В.Г.Божков, И.В.Ивонин, В.А.Новиков
ОАО \glqq Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов\grqq,
634050 Томск, Россия
Томский государственный университет,
634050 Томск, Россия
(Получена 14 января 2008 г. Принята к печати 29 января 2008 г.)
|
Исследования методом атомно-силовой микроскопии подготовленных для нанесения барьерного контакта поверхностей эпитаксиального -GaAs показали, что основной рельеф таких поверхностей характеризуется шероховатостью в пределах 3--15 нм, хотя наблюдаются \glqq выбросы\grqq до 30--70 нм. С использованием трех независимых методов определения пространственной размерности поверхности, основанных на фрактальном анализе поверхности (метод триангуляции), контура ее сечения в горизонтальной плоскости и вертикального сечения (профиля поверхности) показано, что рабочая поверхность эпитаксиального -GaAs удовлетворяет всем основным закономерностям поведения фрактальных броуновских поверхностей и в локальном приближении может характеризоваться величиной фрактальной размерности , несколько различающейся для различных измерительных масштабов. По результатам наиболее точного метода триангуляции фрактальные размерности исследований поверхности эпитаксиального -GaAs для значений измерительного масштаба от 0.692 до 0.0186 мкм лежат в диапазоне . Получены оценки реальной площади поверхности эпитаксиальных слоев -GaAs с помощью графического способа в приближении ( --- параметр, характеризующий измерительный масштаб). Показано, что реальная площадь поверхности эпитаксиального -GaAs может значительно (на порядок и более) превышать площадь видимого контактного окна. PACS: 61.43.Hv, 68.35.Ct, 68.37.Ps, 68.47.Fg, 82.45.Mp |
| PDF версия (1.8Mb) | Другие выпуски | Другие журналы | Помощь |
|---|
| Copyright (C) 2009, Коллектив авторов Разработано... webmaster |