ФТП, 2005, том 39, выпуск 11

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Десорбция водорода с поверхности в условиях эпитаксиального наращивания слоев кремния из моносилана в вакууме

Л.К.Орлов , Т.Н.Смыслова *

Институт физики микроструктур Российской академии наук,
603950 Нижний Новгород, Россия
* Всесоюзный научно-исследовательский институт экспериментальной физики,
607190 Саров, Россия

(Получена 10 февраля 2005 г. Принята к печати 22 марта 2005 г.)

Впервые по экспериментальным данным, описывающим степень покрытия поверхности кремниевой пластины водородом непосредственно в процессе выращивания эпитаксиального слоя кремния из силана в вакууме, определен коэффициент десорбции водорода и энергия активации этого процесса. Проведено сопоставление данных величин с результатами других авторов, полученных в условиях низкотемпературного эксперимента, например, методом термодесорбционной спектрометрии. Найденные величины использованы для вычисления коэффициента кристаллизации и его зависимости от температуры роста и скорости распада моносилана на ростовой поверхности.

 PDF версия (184Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2005, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster