ФТП, 2004, том 38, выпуск 6

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск  

Роль слоев Al0.3Ga0.7As, легированных Si, в высокочастотной проводимости гетероструктур GaAs/Al0.3Ga0.7As в режиме
квантового эффекта Холла

И.Л.Дричко *, А.М.Дьяконов *, И.Ю.Смирнов *, Ю.М.Гальперин *$,
В.В.Преображенский #, А.И.Торопов #

* Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук,
194021 Санкт-Петербург, Россия
$ Университет Осло, Норвегия, и Аргоннская Национальная Лаборатория, США
#  Институт физики полупроводников Сибирского отделения Российской академии наук,
630090 Новосибирск, Россия

(Получена 17 ноября 2003 г. Принята к печати 17 ноября 2003 г.)

С помощью акустических методов исследована комплексная высокочастотная проводимость гетероструктур GaAs/Al0.3Ga0.7As, delta- и модулированно легированных Si, в режиме целочисленного квантового эффекта Холла. По зависимостям поглощения и скорости поверхностных акустических волн от магнитного поля определены как активная sigma1, так и реактивная sigma2 части комплексной проводимости sigma(omega,H)=sigmai-isigma2. Показано, что в гетероструктурах с электронной концентрацией ns=(1.3-7)· 1011 см-2 и подвижностью mu=(1-2)· 105 см2/(В·с) ВЧ проводимость вблизи центров холловских плато является прыжковой. Установлено, что при факторах заполнения 2 и 4 проводимость слоя Al0.3Ga0.7As<Si> существенно шунтирует прыжковую ВЧ проводимость двумерного интерфейсного слоя. Разработан метод разделения вкладов в прыжковую проводимость sigma(omega,H) от интерфейсного слоя и слоя Al0.3Ga0.7As<Si>. Определена длина локализации электронов в интерфейсном слое на основе модели одноэлектронных прыжков на ближайший узел. Показано, что в гетероструктурах GaAs/Al0.3Ga0.7As вблизи центров холловских плато как sigma(omega,H), так и ns зависят от скорости охлаждения образца. В результате образец \glqq помнит\grqq условия охлаждения. Величины sigma(omega,H) и ns чувствительны также к инфракрасному облучению и к статической деформации образца. Мы связываем эти факты с присутствием в слое Al0.3Ga0.7As<Si> двухэлектронных дефектов --- так называемых DX--центров.

 PDF версия (539Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2004, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster